是本着突出近代真空鍍膜技術進步，注重系統性、強調實用性而編著的。全書共11章，內容包涵了真空鍍膜中物理基礎，各種蒸發源與濺射靶的設計、特點、使用要求，各種真空鍍膜方法以及薄膜的測量與監控，真空鍍膜工藝對環境的要求等。《真空鍍膜》具有權威性、實用性和通用性。

第1章 真空鍍膜概論第2章 真空鍍膜技術基礎第3章 蒸發源與濺射靶第4章 真空蒸發鍍膜第5章 真空濺射鍍膜第6章 真空離子鍍膜第7章 離子束沉積與離子束輔助沉積第8章 化學氣相沉積第9章 薄膜的測量與監控第10章 薄膜性能分析第11章 真空鍍膜技術中的清潔處理參考文獻